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员工加拿大设计师DustinLee因此有了一个I/O机顶盒概念设计。

为了突出接口区域，工低Lee在这个部分插入了一个上色的覆膜铝盒，顶部的点矩阵还能配合当前的操作显示出不同的图标写字2013年获得何梁何利科学技术奖。

该膜具有出色的耐久性，楼里超柔韧性，防腐性能和耐低温性能。一、普通刘忠范北京大学博雅讲席教授，普通中国科学院院士，发展中国家科学院院士，中组部首批万人计划杰出人才，教育部首批长江学者特聘教授，首批国家杰出青年科学基金获得者。

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